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[发明] 一种用于微机械器件制作玻璃/硅键合装置及其使用方法 - 00116305.1
无权-未缴年费

申请人:中国科学院上海冶金研究所 - 申请日:2000-06-02 - 主分类号:C03C27/00
分类号:C03C27/00 B81C5/00...
摘要:一种用于微机械器件制作的玻璃/硅键合装置,主要由探针电极工作台、显微镜、CCD及监视器组件,硅片加热工作台及玻璃片定位工作台四部分组成,实施在玻璃/硅片受热膨胀变形均匀稳定后进行对准并同时键合,使键合对准精度达到1微米的要求,提高了键合器件...
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[发明] 玻璃衬底上可动硅微机械结构集成化的制作方法 - 00119498.4
无权-未缴年费

申请人:中国科学院上海冶金研究所 - 申请日:2000-07-21 - 主分类号:B81C1/00
分类号:B81C1/00 H01L21/84...
摘要:一种单晶玻璃衬底上可动硅微机械结构集成化的制作方法,该方法通过硅—玻璃静电键合技术将单晶硅敏感结构制作在玻璃衬底上,在硅片键合面一侧对应可动结构底部预腐蚀浅坑实现可动结构的悬空,引入单晶硅深反应离子刻蚀技术进行微结构刻蚀成型,可以单晶硅为结...
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[发明] 薄膜型装置及其制作方法 - 99122222.9
有权

申请人:光磊科技股份有限公司 - 申请日:1999-11-03 - 主分类号:H01L49/02
分类号:H01L49/02 B81C1/00...
摘要:一种薄膜型装置及其制作方法,包括下列步骤:在一衬底的上表面形成一底层;在此底层开设第一蚀刻窗;形成牺牲层充填第一蚀刻窗;形成一结构层覆盖牺牲层表面;在结构层开设第二蚀刻窗;最后经由第二蚀刻窗对牺牲层及衬底进行蚀刻,使得第二蚀刻窗连通第一蚀刻...
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[发明] 利用激光加工被加工物的方法 - 00800219.3
有权

申请人:精工爱普生株式会社 - 申请日:2000-02-25 - 主分类号:B23K26/38
分类号:L21/302 H01L21/3205 B81C5/00 B41J2/16...
摘要:本发明涉及一种利用激光加工形成高长度直径比的加工孔的加工被加工物的方法。在硅基板(1)的表面和背面分别形成氧化硅膜(2)作为保护膜,经该保护膜(2)向硅基板(1)照射激光进行开孔加工。或者,向硅基板(1)照射圆偏振或随机偏振的激光。由此获得...
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[发明] 光电子多芯片组件中多处理单元的布局及划分方法 - 01113093.8
无权-视为撤回

申请人:上海交通大学 - 申请日:2001-06-07 - 主分类号:B81C3/00
分类号:B81C3/00 H01L25/00 H01L2...
摘要:一种光电子多芯片组件中多处理单元的布局及划分方法,将用户互连网表输入转换为二维布局矩阵并用基因混合法处理,采用二维基因演化法对初始化二维种群进行交叉和变异操作,再对二维种群中的最佳个体进行反变换,生成逻辑布局图输出,实现从用户网表输入到布局...
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[发明] 阵列式光学探针扫描集成电路光刻方法 - 01120598.9
无权-未缴年费

申请人:清华大学 - 申请日:2001-07-26 - 主分类号:H01L21/027
分类号:H01L21/027 G03F7/00 B81C5/00...
摘要:本发明属于微细工程制造领域,该方法使用阵列式光学探针扫描光刻制作集成电路,达到的集成电路的最小线宽可小于0.1μm,同时具有速度快,效率高的特点,并大大简化了集成电路的制作工艺,为超大规模集成电路的制作提供了一种新的有效的途径。
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[发明] 阵列式光探针扫描集成电路光刻系统中的对准方法及其装置 - 01123501.2
无权-未缴年费

申请人:清华大学 - 申请日:2001-07-26 - 主分类号:H01L21/027
分类号:H01L21/027 G03F7/00 B81C5/00...
摘要:本发明涉及一种阵列式光探针扫描集成电路光刻系统中的对准方法和装置,首先根据电路图形确定关键点,将电路图形的区别特征进行编码,并刻写在硅片上,设置一对校准图形,使校准图形位于电路图形处,校准图形由校准子图形组成。根据图形关键点,在硅片上刻写校...
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[发明] 带有厚层结构的晶片上金属层的图形化方法 - 01142030.8
无权-视为撤回

申请人:清华大学 - 申请日:2001-09-07 - 主分类号:B81B7/02
分类号:B81B7/02 B81C1/00...
摘要:本发明属于微型电子机械系统(MEMS)技术领域,特别涉及一种在带有厚层结构的硅晶片上金属层的图形化方法。在本发明提出的金属层的图形化方法中,利用牺牲层腐蚀制作与硅衬底间隔着绝缘层的悬起隔离槽如多晶硅隔离槽,把溅射或蒸发在带有厚层结构的硅晶片...
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[发明] 聚合物薄膜图案成形方法及其应用 - 00807451.8
无权-未缴年费

申请人:薄膜电子有限公司 - 申请日:2000-05-12 - 主分类号:G03F7/00
分类号:G03F7/00 B41M1/06 B81C1/00...
摘要:一种在材料表面形成涂层的聚合物薄膜的图案成形方法,按此法,在该表面沉积上聚合物薄膜,图案成形过程是:在该表面上加盖由弹性体材料制成的印模,达到与薄膜表面共形接触,于是薄膜与由至少1条凹痕形成的弹性体印模1个或多个凸起要素相接触的部分,便附着...
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[发明] 一种C60单分子层膜的制备方法 - 01135663.4
无权-视为撤回

申请人:中国科学院兰州化学物理研究所 - 申请日:2001-10-12 - 主分类号:B05D7/00
分类号:B05D7/00 B05D1/18 B81C1/00...
摘要:本发明提供一种C60单分子层膜的制备方法。以易吸附于固体表面并含有胺基反应活性基团的聚合物及C60为原料制备C60单分子层膜。所制得的薄膜材料具有较低的表面能,在小负荷条件下...
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