| 分类 |
| 分类号 | 含义 | ||||
| G | 物理 | ||||
| G03 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术 | ||||
| G03F | 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备 | ||||
| 1/00 | 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备 | ||||
| 1/20 | .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备 |  |
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| 1/22 | .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外 | |
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| 1/26 | .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备 | |
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| 1/36 | .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺 | |
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| 1/38 | .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备 | |
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| 1/50 | .未包含在G03F 1/20-G03F 1/26组中的空白掩膜；其制备 | |
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| 1/52 | .反射镜 | |
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| 1/54 | .吸收剂，例如不透明材料 | |
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| 1/60 | .基板 | |
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| 1/62 | .薄膜或薄膜集合，例如在支持框架上具有薄膜；其制备 | |
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| 1/66 | .专门适用于掩膜，空白掩膜或薄膜的容器；其制备 | |
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| 1/68 | .未包含在G03F 1/20至G03F 1/50组中的制备工艺 | |
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| 1/88 | .通过制备具有模拟浮雕的原版的照相过程的制备 | |
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| 1/90 | .采用蒙太奇方法制备 | |
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| 1/92 | .从印刷表面制备 | |
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