中国专利搜索 世界专利搜索 专利分类查询 专利引用检索 专利族检索
登陆 | |

一种化学机械抛光的优化方法及装置
有权
阅读公开文献

申请号:201910027830.6 申请日:2019-01-11
摘要:本发明提供一种化学机械抛光的优化方法,该方法根据第n片图形片的动态权重因子、实际去除量、预测抛光速率、抛光时间以及预测补偿值预测第n+1片图形片的预算补偿值以及抛光时间,并根据预测得到的预算补偿值以及抛光时间对第n+1片图形片进行化学机械抛光。其中,第n片图形片的动态权重因子与抛光所用耗材的寿命周期影响因素有关,使得该方法可以在线优化由于抛光耗材不同寿命周期下的抛光速率差异导致的抛光时间算法误差,有效提高了抛光时间算法的精度。
Abstract: The invention provides an optimization method for chemical mechanical polishing. According to the method, a budget compensation value and polishing time of an (n+1)th graph sheet are predicted according to a dynamic weighting factor, the actual removal amount, the predicted polishing rate, polishing time and a predicted compensation value of an nth graph sheet; and chemical mechanical polishing iscarried out on the (n+1)th graph sheet according to the predicted budget compensation value and the predicted polishing time. The dynamic weighting factor of the nth graph sheet is related to the life cycle influencing factor of consumables used for polishing, and therefore the method can optimize the polishing time algorithm error caused by the difference of the polishing rates under different life cycles of the polishing consumables, and the polishing time algorithm accuracy is effectively improved.
申请人: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
Applicant:
地址: 100176 北京市经济技术开发********(隐藏)
发明(设计)人: 张康 李婷 蒋锡兵 王栋 赵雪峰 张连伯
Inventor:
主分类号: B24B37/005(20120101)
分类号: B24B37/005(20120101) B24B49/00(20120101) G06T7/00(20170101) G06T7/62(20170101)
  • 法律状态
2020-05-22  授权
2019-05-17  实质审查的生效IPC(主分类):B24B 37/005申请日:20190111
2019-04-23  公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
  • 其他信息
主权项  1.一种化学机械抛光的优化方法,其特征在于,包括:/n在根据第n片图形片的抛光时间un对所述第n片图形片进行化学机械抛光之后,根据抛光前的图形片厚度以及抛光后的图形片厚度计算所述第n片图形片的实际去除量Yn;其中,n为不小于1的整数,所述图形片为有图像的晶圆;/n根据所述第n片图形片的所述抛光时间un、所述第n片图形片的预测补偿值以及所述第n片图形片的预测去除量计算所述第n片图形片的预测抛光速率bn;/n根据所述第n片图形片的动态权重因子λn、所述第n片图形片的所述实际去除量Yn、所述第n片图形片的所述预测抛光速率bn、所述第n片图形片的所述抛光时间un以及所述第n片图形片的所述预测补偿值计算第n+1片图形片的预测补偿值其中,所述第n片图形片的所述动态权重因子λn由耗材的预期剩余寿命影响因子决定;/n根据所述第n片图形片的所述预测抛光速率bn、所述第n+1片图形片的目标去除量Tn+1以及所述第n+1片图形片的所述预测补偿值计算所述第n+1片图形片的抛光时间un+1。/n
公开号  109664199B
公开日  2020-05-22
专利代理机构  11371 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人  王术兰
颁证日  
优先权  
 
国别 优先权号 优先权日 类型
CN  201910027830  20190111 
国际申请  
国际公布  
进入国家日期  
  • 专利对比文献
类型 阶段 文献号 公开日期 涉及权利要求项 相关页数
注:不保证该信息的有效性、完整性、准确性,以上信息也不具有任何效力,仅供参考。使用前请另行委托专业机构进一步查核,使用该信息的一切后果由用户自行负责。
X:单独影响权利要求的新颖性或创造性的文件;
Y:与检索报告中其他 Y类文件组合后影响权利要求的创造性的文件;
A:背景技术文件,即反映权利要求的部分技术特征或者有关的现有技术的文件;
R:任何单位或个人在申请日向专利局提交的、属于同样的发明创造的专利或专利申请文件;
P:中间文件,其公开日在申请的申请日与所要求的优先权日之间的文件,或会导致需核实该申请优先权的文件;
E:单独影响权利要求新颖性的抵触申请文件。
  • 期刊对比文献
类型 阶段 期刊文摘名称 作者 标题 涉及权利要求项 相关页数
  • 书籍对比文献
类型 阶段 书名 作者 标题 涉及权利要求项 相关页数
  • 附加信息
同族专利
CN109664199A
 
引用文献
US6932671B1CN101104250ACN102189469A
CN106312792ACN1412823ACN1661780A
 
被引用文献